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清洗機(jī)

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  • 知識(shí)分享 spm清洗液配制方法 芯矽科技
    SPM清洗液（硫酸-過氧化氫混合物，H?SO?/H?O?）是半導(dǎo)體制造中常用的強(qiáng)氧化性清洗液，主要用于去除晶圓表面的有機(jī)物、金屬污染和氧化物。以下是其配制方法及關(guān)鍵注意事項(xiàng)： 一、SPM清洗液配方 基礎(chǔ)成分 濃硫酸（H?SO?）：98%濃度，提供強(qiáng)酸性和脫水性，促進(jìn)氧化反應(yīng)。 過氧化氫（H?O?）：30%濃度，作為氧化劑，分解有機(jī)物并氧化金屬雜質(zhì)。 去離子水（DI Water）：用于稀釋，調(diào)節(jié)溶液
  • 兆聲波在晶圓清洗機(jī)是如何產(chǎn)生的？
    學(xué)員問：有的單片清洗機(jī)里也配有超聲波，這是怎么實(shí)現(xiàn)的呢？共有幾種超聲波產(chǎn)生的方式？
  • 槽式清洗硅片轉(zhuǎn)速多少正常
    如果你要問，槽式清洗硅片轉(zhuǎn)速多少正常？如此看起來你是慢慢研究深入了，開始入門了。畢竟這個(gè)是細(xì)節(jié)深入的問題，對(duì)于答案來說，并非如此簡(jiǎn)單。因?yàn)椴凼角逑垂杵霓D(zhuǎn)速取決于多種因素，如清洗方式、化學(xué)品種類、晶圓尺寸以及清洗的具體目標(biāo)等。 簡(jiǎn)單的一句話，一定不足以能讓大家滿意，為此下面我們給大家準(zhǔn)備了一些常見的轉(zhuǎn)速范圍及其適用情況： 低速旋轉(zhuǎn)（100-300 RPM）：在潤(rùn)濕步驟中，液體從噴嘴噴出，而盤片以相
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    如果你對(duì)于槽式清洗和單片清洗的區(qū)別迷迷糊糊，那么今天我們就來找找這兩種之間的相同與不同點(diǎn)。明白了這其中的細(xì)節(jié)，相信你可以更好的理解槽式清洗和單片清洗存在的不用點(diǎn)。 槽式清洗和單片清洗到底有什么區(qū)別呢？ 其實(shí)綜合來說這兩種之間在工作原理、清洗效率以及成本控制等方面存在區(qū)別。對(duì)于具體的細(xì)節(jié)與內(nèi)容，我們下面為大家詳細(xì)解釋了： 工作原理 槽式清洗：將多個(gè)晶圓放在花籃中，利用機(jī)械手依次將其通過不同的化學(xué)試劑
  • 濕法清洗設(shè)備公司太多了，得清洗一下了...
    半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)的銷售額里差不多八成是前道設(shè)備的份額。我按照一般的行業(yè)共識(shí)，把前道設(shè)備分成：光刻、涂膠顯影、CVD成膜、PVD成膜、其它成膜、干法、濕法、熱處理、CMP、離子注入和檢測(cè)量測(cè)11個(gè)大類（各家分類方法有差異，但基本區(qū)別不大）最近幾年以來，晶圓制造設(shè)備一直是一級(jí)市場(chǎng)追逐的熱門賽道。直到最近，也經(jīng)常有投資人向我打聽和咨詢各種前道設(shè)備的項(xiàng)目。
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