柵極氧化層在SiC MOSFET設計中的重要作用
碳化硅功率半導體在光伏、充電、電動汽車等行業(yè)得到了廣泛應用,其潛力毋庸置疑。然而,從當前高功率碳化硅MOSFET來看,仍存在一個難題:即如何實現(xiàn)平衡性能、魯棒性、可靠性和易用性的設計。比導通電阻是衡量SiC MOSFET技術(shù)先進性的關(guān)鍵參數(shù),但其它標準,例如可靠性,也是制約器件表現(xiàn)的重要因素。對于不同的應用,導通電阻與可靠性之間的折衷也略有差異。因此,合理的器件定義應當保證設計靈活性,以滿足不同的任務需求,無需大量設計工作和設計布局變化。