柵極氧化層在SiC MOSFET設(shè)計(jì)中的重要作用
碳化硅功率半導(dǎo)體在光伏、充電、電動(dòng)汽車等行業(yè)得到了廣泛應(yīng)用,其潛力毋庸置疑。然而,從當(dāng)前高功率碳化硅MOSFET來(lái)看,仍存在一個(gè)難題:即如何實(shí)現(xiàn)平衡性能、魯棒性、可靠性和易用性的設(shè)計(jì)。比導(dǎo)通電阻是衡量SiC MOSFET技術(shù)先進(jìn)性的關(guān)鍵參數(shù),但其它標(biāo)準(zhǔn),例如可靠性,也是制約器件表現(xiàn)的重要因素。對(duì)于不同的應(yīng)用,導(dǎo)通電阻與可靠性之間的折衷也略有差異。因此,合理的器件定義應(yīng)當(dāng)保證設(shè)計(jì)靈活性,以滿足不同的任務(wù)需求,無(wú)需大量設(shè)計(jì)工作和設(shè)計(jì)布局變化。